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真空電鍍的工藝原理

發(fā)布時(shí)間:2020-06-05 09:56:09  瀏覽次數(shù):

真空電鍍法是在真空條件下加熱金屬,使其熔融、蒸發(fā),冷卻后在塑料表面形成金屬薄膜的方法。常用的金屬是鋁等低熔點(diǎn)金屬。

加熱金屬的方法:可以利用電阻產(chǎn)生的熱能,也可以利用電子束。

在對(duì)塑料制品實(shí)施蒸鍍時(shí),為了確保金屬冷卻時(shí)所散發(fā)出的熱量不使樹(shù)脂變形,必須對(duì)蒸鍍時(shí)間進(jìn)行調(diào)整。此外,熔點(diǎn)、沸點(diǎn)太高的金屬或合金不適合于蒸鍍。置待鍍金屬和被鍍塑料制品于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。

在真空條件下可減少蒸發(fā)材料的原子、分子在飛向塑料制品過(guò)程中和其他分子的碰撞,減少氣體中的活性分子和蒸發(fā)源材料間的化學(xué)反應(yīng)(如氧化等),從而提供膜層的致密度、純度、沉積速率和與附著力。通常真空蒸鍍要求成膜室內(nèi)壓力等于或低于10-2Pa,對(duì)于蒸發(fā)源與被鍍制品和薄膜質(zhì)量要求很高的場(chǎng)合,則要求壓力更低( 10-5Pa )。鍍層厚度0.04-0.1um太薄,反射率低;太厚,附著力差,易脫落。厚度0.04時(shí)反射率為90%。


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